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            1. 深圳市東信高科自動化設備有限公司
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              等離子清洗機
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              首頁 新聞資訊 等離子清洗 40KHz與13.56MHz等離子清洗機有什么區別

              40KHz與13.56MHz等離子清洗機有什么區別

              等離子清洗機原理是在真空狀態下使電極之間形成高頻交變電場,區域內氣體在交變電場的激蕩下,形成等離子體,活性等離子對被清洗物進行物理轟擊與化學反應雙重作用,使被轟擊與化學反應雙重作用,使被清洗物表面物質變成粒子,和氣態物質,經過抽真空排出,而達到清洗目的。

              真空等離子清洗機的工作頻率與能產生物理作用還是化學作用有很大關系,常用的等離子清洗系統激發頻率有三種: 40kHz,13.56MHz和20MHz;不同等離子體激發頻率產生的自偏壓不一樣。40kHz的自偏壓為1000V左右,13.56MHz自偏壓為250V左右,20MHz的自偏壓則更低,這三種激發頻率的機制不同,40kHz發生的反應為物理反應,13.56MHz發生的反應既有物理反應又有化學反應,20MHz有物理反應但更主要的反應為化學反應,需要對材料進行活化、改性的要用13.56MHz或者20MHz的等離子體清洗。

              40KHz等離子體在能量轉化方面優于13.56MHz,前者將更多的能量轉化為粒子動能及化學活性,后者在等離子處理過程中產生的熱量比較多,也就是其中很多能量轉化為了熱能,所以就降低了粒子的動能及化學活性。處理的效果就會不理想,或者是需要加特殊氣體和增加處理時間等等,我們的設備很多時候用空氣處理就能達到要求的效果,這是很多其他同類設備無法達到的。13.56MHz等離子體電場中的頻率振蕩較高,相對于40KHz射頻等離子而言電子在轉變方向之前的運動距離更短。這意味著在每個運動周期中能夠到達器件表面的粒子數量更少,因此表面受到粒子撞擊減少,從而降低了清洗的效率和效果,直接影響產品質量和產量。40KHz射頻等離子體是最廣泛使用和通用性好的等離子體技術,它應用于半導體、微電子、醫療和通用工業的寬廣領域內。在通用工業、半導體、微電子、醫療行業,需要清潔、涂覆或化學改性的材料表面被浸入到射頻等離子體的能量環境中,除了40KHz射頻等離子體的強烈的化學作用外,其攜帶動量的粒子到達材料表面后可以物理地去除更加化學惰性的表面沉淀物(如金屬氧化物和其它無機物沉淀)以及交聯聚合物以達到清潔、活化目的。

              13.56MHz等離子清洗機

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