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            1. 深圳市東信高科自動化設備有限公司
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              等離子清洗機
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              首頁 新聞資訊 疑難解答 等離子清洗機維護保養方法與保養計劃

              等離子清洗機維護保養方法與保養計劃

              等離子清洗機在各行各業已經廣泛應用,等離子清洗機設備原理并不復雜,但是一套完整的等離子系統包含很多方面。在使用過程中,合理有效的進行設備維護,能夠減少設備的故障率,增加設備的使用壽命,同時能夠保證清洗達到生產的工藝標準。這在工業生產制造上,能起到很大的穩定作用。

              等離子清洗機原理是兩個電極之間形成高頻交變電場,用真空泵在裝置的密閉容器中實現一定的真空度(見圖1)隨著氣體越來越稀薄,分子間距及分子或離子的自由運動距離也越來越長,區域內氣體在交變電場的激蕩下,形成等離子體。在真空和瞬時高溫狀態下,活性等離子對孔壁內鉆污、殘膠及油污等污染物進行物理轟擊與化學反應雙重作用,污染物部分蒸發或在高能量離子的沖擊下被擊碎,使被清洗物表面物質變成粒子和氣態物質,經過抽真空排出,從而達到清洗目的。

              等離子清洗機清洗原理

              在實際生產中,我們發現等離子清洗機一些重要的部件會隨著使用時間的推移產生不同程度的氧化、老化、腐蝕等問題,會是引起等離子清洗機達不到清洗效果的原因,例如反應腔、電極、托板架、氣體的壓力等。以下介紹了幾個關鍵部位保養前后的效果以及如何進行保養。

              等離子清洗機腔體清潔

              等離子腔體清潔時產生的污物大部分都接近電子級別,會隨著真空泵排除。但也會有一些大顆粒污染物產生。這些大顆粒污物會附著在腔壁、電極和托板架上。腔壁上有一層薄薄的“灰”,腔底掉落更嚴重。對于腔壁用不可掉落的毛刷清潔使顆粒粉塵異物在腔壁脫落,用吸塵機將污物吸出。用脫脂布沾酒精擦拭,其次腔體導入N2O2,用等離子體清除腔體內殘余物,工作10min。

              電極與托板架的保養

              托板架和電極長時間使用后會附著氧化層,同時采用等離子體處理烴基材料時,一段時間后在托板架、電極,RF導電桿上會積累一層薄的烴基殘留物,這些殘留物和氧化層是無法用酒精擦拭掉的。應依據附著物的量對電極、托板架進行翻新維護能保證清洗的穩定。清洗材料要求:氫氧化鈉、硫酸、城市用水和蒸餾水。注意:不要使用手磨機、砂紙或磨蝕性噴砂處理等機械方法清潔;氫氧化鈉溶液會與鋁發生劇烈的化學反應,應小心謹慎以確保僅在所需的時間內清除沉積物;反應中會生成具有潛在爆炸性的氫氣,因此工作區域應保持良好的通風。

              真空泵的保養

              查看真空泵油位和油的純度,觀察油位視窗,發現油位接近最低紅線刻度,加油到紅標線上下之間位置。

              定期保養計劃

              等離子清洗機在使用過程中,腔體內出現的一些殘留物和氧化層,在前期發展階段,該薄層并不影響設備的運行或成品。但是經過持續的運轉后,發現了清洗效果不穩定,能察覺到微小改變,所以在使用一段時間之后是需要將托板架與電極進行清洗翻新。同時設備出現的故障也直接體現設備的保養的程度。如經適當的維修、翻新,電極的使用壽命可達到預期使用的最大值。那么通過等離子清洗設備的原理和構成制定可行性保養計劃很關鍵。從圖1可看出等離子設備的三大條件是真空環境(真空機組,真空檢測儀,腔體的密閉)、高能量(射頻電源、溫度、工藝氣體)和介質(腔體、電極、托板架)組成。那么等離子清洗機的保養應從以上這些方面進行,根據保養項目劃分周期分為每日、每周、每月、半年、每年、2~3年,見表1。

              等離子清洗機維護保養計劃


              在實際生產過程中,影響等離子清洗效果的不僅僅是工藝技術,還有設備的穩定性,比如工藝氣體的微小泄露、電極托板架的烴基殘留物、腔體內其他管道的氧化程度以及設備本身不同程度的故障這些都是在生產制造過程中直接對生產產生影響。因此,做好等離子清洗機維護保養非常必要。

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